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          技術文章/ article
          
        
           您的位置：首頁  -  技術文章  -  關于光譜干涉式晶圓測厚儀SF-3的特征及用法 
          
        
          
      
          
      
          
        	
          關于光譜干涉式晶圓測厚儀SF-3的特征及用法
          
            
          更新時間：2023-04-14      瀏覽次數：159
          
            
          
            	 
          特征
          • 通過光學方法可以進行非接觸式和非破壞性的厚度測量。
          • 實現高測量再現性
          • 可實時高速監控拋光
          • 實現了長 WD（工作距離）并且易于集成到設備中
          • 從主機設備使用 LAN 通過 TCP/IP 通信進行控制
          • 可以進行多層厚度測量
          • 可測量臨時晶圓（臨時鍵合晶圓）各層厚度
          用法
          • 各種晶圓（硅、其他化合物晶圓）的厚度測量
          • 融入各種工藝，如研磨、拋光、粘合等。
          • 晶圓以外的厚膜部件厚度測量
          • 300 毫米晶圓測繪系統
          • 通過對準精細圖案提供晶圓厚度和各種厚度信息
          • 配備高精度XY定位平臺（±2μm以下），實現高精度定位
          • 可以處理晶圓以外的形狀
          • 可以檢查測量點周圍的視野
          • 對應半導體用300mm晶圓
          • 與 MEMS 和傳感器設備兼容

          
            
          
         
          
                
                
                  
                  
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